
Формула применима к любым заряженным частицам в кулоновском поле. Она лежит в основе метода резерфордовского обратного рассеяния (RBS), с помощью которого бесконтактно определяют состав и толщину покрытий, проверяют качество плёнок в микроэлектронике и рассчитывают дозы в лучевой терапии.
—