ترانزستور القدرة المصنوع من كربيد السيليكون يعمل تحت جهد أعلى بآلاف المرات من جهد المقبس المنزلي. إذا توزع المجال داخله بشكل غير متساوٍ، فقد يحترق الجهاز. في السابق لم يكن بالإمكان رؤية هذا المجال: فهو قوي جدًا بالنسبة للمستشعرات العادية، ويجب أن يظل الجهاز تحت الجهد أثناء القياس. الآن تم العثور في البلورة على جاسوس صغير — عيب يتوهج استجابةً للمجال.
هذا العيب هو مكان فارغ حيث يجب أن توجد ذرة سيليكون. هذا الفراغ (vacancy) يتصرف مثل إبرة البوصلة: يتغير توهجه اعتمادًا على اتجاه المجال. والمثير للدهشة أن الإبرة تستشعر المجال بشكل متساوٍ في الاتجاهين الطولي والعرضي للبلورة. إنها مثل بوصلة لا تُظهر الشمال فقط، بل أيضًا الارتفاع عن الأرض. لا توجد مستشعرات أخرى مثل هذه.
التحليل الطيفي لتوهج الفراغات يتيح بناء خريطة للمجال داخل الجهاز بدقة أقل من ميكرومتر. يمكن تحديد المكان الذي يتجمع فيه المجال في «قبضة» خطيرة، وإعادة تصميم الجهاز بحيث يقع الضغط في مكان أكثر متانة. هذا النهج يحول تطوير إلكترونيات القدرة من أسلوب التجربة والخطأ إلى علم دقيق.
كما كتبه المؤلفون، بالإنجليزية arXiv:2603.13836
For high-bias operation devices such as silicon carbide (SiC) power devices, early detection of failure mechanisms is essential to ensure reliability. This requires a method to map high electric fields with high spatial resolution, which has not been realized until now. Here we report that the silicon vacancy (Vsi) in SiC has outstanding characteristics for detecting electric fields applied in various directions within a high-biased SiC device. Vsi exhibits an equivalent response to electric field components parallel (Epara) and perpendicular (Eperp) to the c-axis, a feature unique among quantum sensors, and the responsiveness to Epara and Eperp enables detection of arbitrary electric fields encountered in cutting-edge SiC power devices. We confirmed high electric field detection of ~2.3 MV/cm, which is ~90% of the breakdown electric field of a 4H-SiC with typical carrier concentration. Selectively formed Vsi enables high-resolution mapping of electric field distribution. Vsi-based quantum sensors bring data-driven research and development methodologies as well as device degradation diagnosis.
فراغ سيليكون مفرد في كربيد السيليكون أصغر من جزء من مليون من المليمتر، لكنه قادر على الإبلاغ عن مجال أقوى بآلاف المرات من المجال في سحابة رعدية.