كاشف جسيمات في BEPCII يسجل التصادمات واضمحلالات الجسيمات الناتجة.كاشف BESIII هو كاشف جسيمات كبير متعدد الأغراض يقع في مصادم الإلكترون-بوزيترون BEPCII في بكين، الصين. يسجل حطام التصادمات عالية الطاقة بين الإلكترونات والبوزيترونات، مما يسمح للفيزيائيين بدراسة خصائص الجسيمات الناتجة، خاصة تلك التي تحتوي على كواركات ساحرة وليبتونات تاو. الدقة العالية للكاشف وعينات البيانات الكبيرة تجعله أداة رئيسية للتحقيق في الاختلافات الدقيقة بين المادة والمادة المضادة، والبحث عن اضمحلالات نادرة أو 'غير مرئية' للجسيمات، واختبار النموذج القياسي لفيزياء الجسيمات.
بدأ كاشف BESIII عملياته في عام 2008 في مصادم BEPCII المطوَّر، خلفًا للكاشف السابق BESII. تم بناؤه من خلال تعاون دولي بقيادة معهد فيزياء الطاقة العالية (IHEP) في بكين.
يحيط كاشف BESIII بنقطة التصادم في مسرع BEPCII، ويلتقط مسارات وطاقات وهويات الجسيمات الناشئة من كل تصادم. يتكون من عدة كاشفات فرعية متحدة المركز: غرفة انجراف تتبع الجسيمات المشحونة، ونظام زمن الطيران لقياس سرعتها، ومسعر كهرومغناطيسي يمتص الفوتونات والإلكترونات، وكاشف ميون لتحديد الميونات. تُدمج البيانات من هذه الطبقات لإعادة بناء الجسيمات الأصلية وأنماط اضمحلالها، بما في ذلك تلك التي تنتج جسيمات غير مرئية مثل النيوترينوات، والتي يُستدل عليها من الطاقة والزخم المفقودين.
يُستخدم كاشف BESIII لقياس المعلمات الأساسية للجسيمات، والبحث عن فيزياء جديدة تتجاوز النموذج القياسي، ودراسة التفاعلات القوية، مع نتائج تُثري فهمنا للكون المبكر والقوى التي تحكم المادة.
يُبرَّد المغناطيس فائق التوصيل في كاشف BESIII إلى حوالي سالب 123 درجة مئوية باستخدام الهيليوم السائل، وهو أبرد من سطح بلوتو.















