
Метод физического осаждения из паровой фазы, при котором атомы выбиваются из мишени бомбардировкой плазмой.Распыление — это метод физического осаждения из паровой фазы, используемый для создания тонких плёнок материала на подложке. В вакуумной камере вблизи материала-мишени генерируется плазма, и энергичные ионы этой плазмы бомбардируют мишень, выбивая атомы за счёт передачи импульса. Эти выбитые атомы затем перемещаются и конденсируются на подложке, образуя тонкое однородное покрытие.
Явление впервые наблюдал в 1852 году Уильям Роберт Гроув, заметивший выброс материала с катода во время экспериментов с электрическим разрядом. Практическим методом осаждения оно стало в середине XX века.
Между мишенью (катодом) и камерой прикладывается напряжение, ионизирующее технологический газ (обычно аргон) в плазму. Положительно заряженные ионы аргона ускоряются в направлении отрицательно заряженной мишени. При ударе они сталкиваются с атомами мишени в каскаде, передавая достаточно энергии для выбивания поверхностных атомов. Эти распылённые атомы осаждаются на подложке, наращивая плёнку атом за атомом. Процесс можно усилить с помощью магнитных полей (магнетронное распыление) для повышения плотности плазмы и скорости осаждения.
Широко используется в производстве полупроводников для нанесения металлических межсоединений, в оптике для просветляющих покрытий и в устройствах хранения данных для магнитных тонких плёнок.
Распыление — это тот же процесс, который медленно разрушает стенки термоядерных реакторов, где ионы плазмы бомбардируют вакуумную камеру, что представляет собой серьёзную инженерную проблему для будущих электростанций.










