
Un procédé utilisé en microfabrication pour structurer des parties d'un film mince ou d'un substrat.La lithographie est la technique de structuration de base en microfabrication, utilisée pour transférer des formes géométriques sur un film mince ou un substrat. C'est grâce à elle que les puces électroniques, capteurs et dispositifs photoniques modernes peuvent contenir des milliards de composants sur une seule puce. Le procédé consiste à recouvrir une surface d'un matériau photosensible (une résine), à exposer certaines zones à un rayonnement (généralement de la lumière ultraviolette, mais aussi des faisceaux d'électrons ou des rayons X), puis à développer chimiquement la résine pour laisser un masque. Ce masque protège des parties de la couche sous-jacente lors de la gravure ou du dépôt, de sorte que le motif est physiquement gravé dans le matériau.
La technique est issue de la photolithographie utilisée en imprimerie et a été adaptée à la fabrication des semi-conducteurs à la fin des années 1950, notamment par Jay Lathrop et James Nall aux laboratoires Diamond Ordnance Fuze de l'armée américaine en 1957.
Le mécanisme essentiel est l'exposition sélective. Un masque ou un faisceau balayé définit les régions de la résine qui sont modifiées. En lithographie optique, la lumière traverse un photomasque, projetant un motif sur la résine ; en lithographie par faisceau d'électrons, un faisceau focalisé écrit directement le motif. Après développement, la résine agit comme un pochoir : les zones exposées sont éliminées ou durcies, selon le type de résine. Les étapes suivantes — gravure, implantation ionique ou croissance de couches minces — transfèrent le motif dans le matériau fonctionnel. La limite de résolution est fixée par la longueur d'onde du rayonnement et par l'optique, ce qui explique pourquoi les méthodes avancées utilisent la lumière ultraviolette extrême ou des faisceaux d'électrons.
La lithographie est utilisée pour fabriquer des circuits intégrés, des microsystèmes électromécaniques (MEMS), des puces photoniques et même des canaux microfluidiques pour les dispositifs de laboratoire sur puce.
La lithographie ultraviolette extrême moderne utilise une lumière d'une longueur d'onde de 13,5 nanomètres — environ 40 fois plus courte que la lumière visible — et nécessite des miroirs recouverts de multicouches de molybdène/silicium, car aucune lentille ne peut focaliser ce rayonnement.


















