
Proceso utilizado en microfabricación para patronar partes de una película delgada o de un sustrato.La litografía es la técnica central de patronado en la microfabricación, utilizada para transferir formas geométricas a una película delgada o a un sustrato. Gracias a ella, los microchips, sensores y dispositivos fotónicos modernos pueden albergar miles de millones de elementos en un solo chip. El proceso consiste en recubrir una superficie con un material fotosensible (una resina), exponer áreas seleccionadas a radiación (generalmente luz ultravioleta, pero también haces de electrones o rayos X) y, a continuación, revelar químicamente la resina para dejar una máscara. Esta máscara protege partes de la capa subyacente durante el grabado o la deposición, de modo que el patrón queda físicamente tallado en el material.
La técnica evolucionó a partir de la fotolitografía utilizada en la impresión y se adaptó para la fabricación de semiconductores a finales de la década de 1950, destacando el trabajo de Jay Lathrop y James Nall en los Laboratorios Diamond Ordnance Fuze del Ejército de los Estados Unidos en 1957.
El mecanismo esencial es la exposición selectiva. Una máscara o un haz escaneado define qué regiones de la resina se alteran. En la litografía óptica, la luz atraviesa una fotorreticula y proyecta un patrón sobre la resina; en la litografía por haz de electrones, un haz enfocado escribe el patrón directamente. Tras el revelado, la resina actúa como una plantilla: las áreas expuestas se eliminan o se endurecen, según el tipo de resina. Los pasos posteriores (grabado, implantación iónica o crecimiento de películas delgadas) transfieren el patrón al material funcional. El límite de resolución viene determinado por la longitud de onda de la radiación y la óptica, razón por la cual los métodos avanzados emplean luz ultravioleta extrema o haces de electrones.
La litografía se utiliza para fabricar circuitos integrados, sistemas microelectromecánicos (MEMS), chips fotónicos e incluso canales microfluídicos para dispositivos de laboratorio en un chip.
La litografía ultravioleta extrema moderna utiliza luz con una longitud de onda de 13,5 nanómetros, unas 40 veces más corta que la luz visible, y requiere espejos recubiertos con multicapas de molibdeno y silicio, ya que ninguna lente puede enfocar esa radiación.


















